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近日,尼康宣布推出了其首款面向半导体后道工艺的光刻系统 DSP-100,并于当月起接受订单,预计 2026 财年内上市。
随着人工智能技术普及,数据中心对集成电路产品需求大增。在以芯粒技术为代表的先进封装领域,基于玻璃面板制造的封装技术需求增长,对电路设计精细化和封装大型化提出要求,尼康开始研发高分辨率、大范围曝光能力的后端光刻机。
本次发布的DSP-100融合尼康的高分辨率技术与 FPD 曝光设备的多镜组协同优势,采用无掩膜 SLM(空间光调制器)技术,直接将电路图案投射至基板,无需传统光掩膜。此外,DSP-100支持 1μm(1000nm)的线宽 / 间距(L/S)分辨率,重合精度≤±0.3μm,满足当前主流先进封装的线路精度要求,并且能够支持最大600mm见方的大型基板。
DSP-100使用无掩膜 SLM 技术,可节省超过 40% 的开发成本,同时极大地提升生产效率。传统的掩膜制作周期在 2-4 周,使用 SLM 技术可将这一周期压缩到几个小时之内。以 510×515mm 基板为例,每小时可处理 50 片,较传统晶圆级封装方案产能提升超 30%;600×600mm 基板的单片生产效率是 300mm 晶圆的 9 倍。
DSP-100 主要聚焦扇出型面板级封装(FOPLP),适用于 AI 芯片、高性能计算(HPC)等领域。台积电、英特尔、三星等行业巨头正积极采用 FOPLP 技术以克服 300mm 晶圆的成本和面积限制,DSP-100 能有效解决多芯片集成的技术瓶颈。据报道,其已获得多家头部封测厂的订单意向,尼康预计该设备在 2026 财年上市后,将迅速抢占 FOPLP 设备市场 20% 的份额。