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ASML公布Q2财报,首台EXE:5200B High NA光刻机已发运

ASML公布了其 2025 年第二季度财报,业绩表现强劲,并宣布首台 TWINSCAN EXE:5200B High NA 光刻机已发运...

ASML 光刻机

材料/设备

挑战5nm单次曝光! ASML携蔡司研发新一代Hyper NA EUV设备

ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)一道启动了5纳米分辨率的Hyper NA光刻机开发,并补充这项技术将足以满足2035年及之后的产业需求...

ASML

材料/设备

新园区将有50个足球场大,ASML大规模扩产开始进行

扩建后的园区将新增357,000平方公尺或更多面积,大约相当于50个足球场的大小。而新园区选址于恩荷芬机场(Eindhoven Airport)和A2高速公路之间...

ASML

材料/设备

ASML计划在日本扩增五倍EUV芯片工具员工

ASML计划在日本将其先进的极紫外光(EUV)芯片工具的员工人数扩增五倍

ASML

材料/设备

聚焦存储器、先进封装等领域,ASML与Imec再合作

ASML和比利时微电子研究中心Imec签署新的战略合作协议...

存储器 ASML

存储器

ASML:向下一代光刻机转变的成本高昂

客户将面临诸多重大抉择...

ASML 光刻机

材料/设备

英特尔:ASML首批两台High-NA EUV设备已投产

据路透社报道,半导体大厂英特尔近日表示,半导体设备大厂阿斯麦(ASML)的首批两台尖端高数值孔径(High NA)光刻机已在其工厂正式投入生产,且早期...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

英特尔宣布任命两名新独立董事,其一曾任职ASML

Meurice 曾于 2004~2013 年担任 ASML 总裁兼首席执行官...

ASML 英特尔

制造/封测

ASML推出High-NA EUV乐高模型

ASML 的 High-NA EUV 光刻机将提供 0.55 数值孔径的投影光学器件...

ASML 光刻机

制造/封测

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