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2025 年 7 月 22 日,在京畿道城南市韩国半导体产业协会举办的 “商用半导体开发技术研讨会” 上,三星电子 DS 部门半导体研究所下一代研究团队常务董事金大宇指出,随着高带宽内存(HBM)技术的发展,当堆叠层数超过 16 层时,现有的热压键合(TC)技术将无法满足生产需求。为此,三星正准备从 16 层 HBM 开始引入混合键合技术。
混合键合是下一代封装技术,与热压键合相比,它可焊接更多芯片堆叠,维持更低的堆叠高度并提高热排放效率。该技术无需在 DRAM 内存层之间添加凸点,而是直接利用铜将上下层连接,能大大提升信号传输速率,更适合 AI 计算所需的高带宽需求,还可降低 DRAM 层间的距离,减少 HBM 模块的整体高度。
此前,三星已成功使用混合键合技术生产出 16 层堆叠的 HBM3 内存样品,且该样品运行正常,未来计划把 16 层堆叠的混合键合技术应用于 HBM4 内存的大规模生产