注册

EUV光刻机相关资讯

三星将先于台积电引入EUV工艺 在先进工艺上赢得领先优势

台积电因连续在14/16nmFinFET、10nm工艺上落后于三星,其急于在7nm工艺上取得领先优势。

三星电子 台积电 EUV光刻机

IC设计

台积电三星拼7纳米制程 ASML极紫外光设备订单持续涌入

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔 (ASML) 公布今年第一季财报,季营收19.4亿欧元

ASML 三星电子 EUV光刻机

IC设计

ASML Q1营收净额19.4亿欧元 EUV系统未出货订单已达21台

ASML Q1营收净额19.4亿欧元 EUV系统未出货订单已达21台

ASML EUV光刻机

IC设计